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词语溅射拆分为汉字:
溅字的拼音、笔画、偏旁部首、笔顺、繁体字,溅字字源来历,溅字演变
1. 溅 [jiàn]2. 溅 [jiān]溅 [jiàn]液体受冲击向四外飞射:水花飞~。溅 [jiān]见“浅2”。……
射字的拼音、笔画、偏旁部首、笔顺、繁体字,射字字源来历,射字演变
1. 射 [shè]2. 射 [yè]3. 射 [yì]射 [shè]放箭:~箭。后羿~日。用推力或弹力送出子弹等:~击。扫~。发~。~程。~手。气体或液体等受到压力迅速流出:喷~。注~。放出光、热、电波等:~电。辐~。~线。照~。反~。有……
汉语拼音:jiàn shè
近义词:迸溅
When using the sputtering nickel system, photoresist and nickel Crosslinking became extremely easy-to-be strong enough to produce water.
在搁置溅射镀镍的编制洋,平刻胶与镍交联后变得格外坚硬,极易爆发水纹。The Jackal is a great offensive and defensive unit, but needs to be placed carefully to avoid harming your own units with splash damage.
豺狼战车是一个强大的攻守兼备的单位,但它的站位要很小心,以防你自己的单位受到溅射伤害。The alloy compositions preferably are formed into sputtering targets used for thin film applications.
所述的合金组合物优选形成为用于薄膜应用领域的溅射靶。Further methods for manufacturing such a medium are described, e. g. inclined sputtering or selective etching.
另外,还披露了用于制造这种介质的方法,例如倾斜溅射或选择性蚀刻。Describes the constitution, performance and testing results of a newly developed plasma beam sputtering system as a coater.
本文介绍了新型的等离子体束溅射镀膜机的系统组成、特点、试验结果等内容。The invention relates to a magnetic confinement magnetron sputtering method and a magnetron sputtering device prepared by use of the same.
本发明涉及一种磁约束磁控溅射方法及利用该方法制备的磁控溅射装置。The effect of gas pressure on the surface morphology, hydrophobic properties and surface energy of as-deposited films is also discussed.
同时探讨了溅射气氛对薄膜表面形貌、疏水性能及表面能的影响。Sputtering overall demand tends to reduce demand for capital, too.
溅射总需求也会趋于减少资本需求。It still does splash damage and it has been gifted with the Dark Archon's Feedback ability.
它仍然是溅射伤害,还获得了暗黑执政官得反馈能力。铂溅射温度
Pt sputtering temperature
溅磁控溅射
rf sputtering.
离子柬溅射
ion beam sputtering
反应性溅射
reactive sputtering.
溅射纳米晶
Sputtered nanocrystalline.
射频反应溅射
RF reactive sputter.
激光溅射沉积
pulsed laser deposition.
循环间歇溅射
circle intermittent deposition.
低温直流溅射
DC sputtering at low temperature
中频反应溅射
Mid frequency reactive sputtering
射频测控溅射
radio frequency magnetron sputtering.
双靶共溅射
dual targets sputtering.
磁控溅射薄膜
sputtered film
磁控溅射铝
aluminium control in magnetron sputtering.
真空磁控溅射
vacuum magnetron sputtering
粉末磁控溅射
powder magnetron sputtering.
磁控反应溅射
reactive magnetron sputtering
磁控溅射沉积
Magnetron sputtering deposition
低温磁控溅射
low temperature magnetic sputtering
平面靶直流溅射
Plane target sputtering
铜铌溅射超导腔
niobium sputtered superconducting cavity
微型溅射离子泵
Miniature sputtering ion pump
离子束溅射沉积
ion beam sputtering deposition
离子束溅射淀积
ion sputtering deposition
反应式磁控溅射
reactive magnetrom sputtering
磁控溅射离子镀
magnetron sputter ion plating
非平衡磁控溅射
unbalanced magnetron sputtering
射频反应磁控溅射
RF reactive sputtering
直流反应磁控溅射
DC reactive magnetron sputtering
射频磁控反应溅射
RF magnetron reaction sputtering
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溅射对于远程有弹道英雄就像分裂斩对于近战英雄,它和分裂斩有相似也有不同的地方。最大的不同在于AoE在弹道击到的目标处 溅射效果图决定,而不是分裂斩由攻击者站立的地方确定。目前版本有一个英雄、一种召唤单位和一种野怪有这种攻击类型。他们是:龙骑士(2、3级变身为龙后)、暗影萨满的蛇帐和黑龙。 和分裂斩不同的是物品中不存在这个技能,因为他需要单位有一种特殊的武器类型,在DotA中这个是Missile (Splash),这也意味着我们不会看见一个近战英雄拥有这个硬编程(hardcoded)的溅射技能。当然我们可以把一个远程的射程设为100(普通近战英雄的射程),这样看起来就像是个近战英雄了。(就像很早以前的熊战士)